沿革
History沿革
年 | できごと | 製造品目 |
---|---|---|
1970年 | 会社設立 | 精密挽物部品の製造 |
1976年 | 腕時計部品の組立・検査 | |
1979年 | 半導体パッケージ電特検査 | |
1984年 | 半導体ベアチップ外観検査 | |
1987年 | 超純水製造装置導入 | HDDディスク基板の研磨加工 半導体ダイシング加工装置導入 |
1990年 | プリンターヘッド顕微鏡検査 | |
1992年 | 液晶カラーフィルター外観検査 インクパック袋洗浄、洗浄液製造開始 |
|
1996年 | 新工場建設 超純水製造装置増設 |
インクパック注入 |
1998年 | インク製造 | |
2000年 | ISO9002、ISO14001認証取得 | 半導体ウェハープローブ検査 |
2001年 | KDインク製造 | |
2002年 | 液晶ガラス基板研磨加工 | |
2003年 | 第2工場増設 品質ISO9001:2000取得 |
半導体ウェハー裏面研削装置導入 水系カートリッジ組立開始 |
2004年 | 第3工場増設 | 顔料系インクの製造 |
2007年 | レーザーマーキング装置導入 | |
2010年 | ウォーターレーザー装置導入 | |
2013年 | エヌエステック設立 ガラス加工 | |
2014年 | 超純水製造装置更新 | 半導体ウエハー裏面鏡面加工装置導入(DP方式) |
2019年 | 創立50周年を迎える | 半導体ウエハー裏面鏡面加工装置導入(CMP方式) |
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